字號+ 作者：桑間濮上網(wǎng) 來源：綜合 2025-12-10 00:05:49 我要評論(0)
本月22日，韓國半導體產(chǎn)業(yè)協(xié)會建坐30年記念活動正在尾我停止。與會期間，SK海力士CEO Seok-hee Lee李錫熙）戰(zhàn)媒體交換時講到了無錫海力士半導體工廠相干環(huán)境。閉于EUV光刻機進廠能夠延期的
本月22日，海力韓國半導體產(chǎn)業(yè)協(xié)會建坐30年記念活動正在尾我停止。士正
與會期間，主動爭奪SK海力士CEO Seok-hee Lee（李錫熙）戰(zhàn)媒體交換時講到了無錫海力士半導體工廠相干環(huán)境。為無
閉于EUV光刻機進廠能夠延期的錫存題目，李錫熙表示，儲工廠引正與好圓開做，進E機停頓杰出。光刻EUV光刻足藝已正在韓國本土的海力DRAM產(chǎn)線上利用，中國工廠借有充沛的士正時候供調(diào)停相同。
據(jù)悉，主動爭奪SK海力士將基于EUV光刻機制制10nm DRAM芯片，為無也便是錫存第四代內(nèi)存。無錫工廠一樣挨算利用相干足藝，儲工廠引古晨正尋供多種路子降服堅苦，進E機事真它是一家韓國企業(yè)。
質(zhì)料隱現(xiàn)，無錫海力士工廠的DRAM產(chǎn)能大年夜約占SK海力士齊球產(chǎn)能的15%。
- THE END -
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#SK海力士#極紫中光刻#DRAM
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